日立存储技术研究中心主管Hiroaki Odawara表示，这项成果基于日立多年设计垂直记录磁头和材料技术上的丰富经验，仍然使用常规的垂直记录技术，但是成功地将磁道间距缩小至65纳米。日立公司相信HDD硬盘仍然是未来家庭数字应用和大规模存储应中中不可缺少的产品，世界信息量的不断增长将促使硬盘容量的不断增加。
日立公司表示，他们2005年4月实现230 Gbit/in2，2006年9月实现345 Gbit/in2，预计以后硬盘容量将会每年增长40%，但是由于目前垂直磁记录技术中使用的连续薄膜介质终将会达到一个密度极限，因此以后还会发展其他技术继续提高容量密度，例如离散磁道、热辅助记录等等。
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